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·电镀废水 electroplating wastewater 在电镀生产过程所排出的各种废水。
·电镀清洗废水 electroplating rinse-wastewater 镀件在清洗槽清洗过程中所排出的废水。不包括冲洗地坪和容器以及跑、冒、滴、漏等废水和废液。
·闭路循环 closed system, closed loop 利用有效处理方法,使废水达到循环利用的要求。
·连续处理 continuous treatment 废水连续进入处理设备,|考试大|进行不间断运行。
·间歇处理 batch treatment 废水间歇或分批进入处理设备,即第一批废水达到处理要求排出后,再进入第二批废水。
·清洗槽 rinse tank 用于清洗镀件所带出的电镀槽液的槽子,按不同清洗方法又可分为漂洗槽、浸洗槽、回收槽等。
·连续式逆流清洗 continuous countercurrent rinsing 采用多级清洗槽对镀件进行漂洗,从末级清洗槽补水,水流方向与镀件运行方向相反。补水方式有常流补水与间歇补水两种(间歇补水是指每当镀件进行清洗时补水)。
·间歇式逆流清洗 intermittent countercurrent rinsing 采用多级清洗槽,对镀件进行浸洗。当末级清洗槽达到控制浓度时,将第一级清洗槽抽出,其它各级清洗槽逐级逆向换水,末槽补充新水。
·反喷洗清洗 back spray rinsing 每级清洗槽高有喷洗装置,镀件通过各级清洗槽时先浸洗,然后用后一级的清洗水喷洗,是清洗效果较好的一种清洗方法。
·清洗用水定额 rinsing water norm 单位镀件表面积达到清洗要求时所需的水量,取决于清洗方法和电镀槽液带出量等因素。
·末级清洗槽浓度 final rinse tank concentration 末级清洗槽单位体积内所含某种元素或化合物的量。
·清洗倍率 rinsing ratio 清洗水量与镀件带出的电镀槽液量之比。
·碱性氯化法 alkaline chlorination process 在碱性条件下,用氯系氧化剂氧化废水中的氰化物,是处理电镀含氰废水常用的一种方法。
·一级氧化处理 first stage oxidation treatment 用氧化剂处理含氰废水,将氰氧化成氰酸盐后,进一步再将氰酸盐氧化成二氧化碳、氮和水。
·二级氧化处理 second stage oxidation treatment 用氧化剂处理含氰废水,将氰氧化成氰酸盐后,进一步再将氰酸盐氧化成二氧化碳、氮和水。
·槽内处理法 tank treatment 在清洗槽内,直接用含用一定浓度的化学药剂(如氧化剂、还原剂等)的溶液来清洗镀件所附着的污染物,使污染物得到去除的一种处理方法。
·铁氧体法 ferriter technique 铁氧体是指具有铁离子、氧离子及其它金属离子所组成的氧化物晶体。一般指亚、高铁酸盐的总体,是一种半导体。含有重金属离子的污泥,加工成铁氧体之后可防止污泥的二次污染。
·树脂交换容量 resin exchange capacity 单位体积或重量树脂中的交换基团所能交换的阴、阳离子克数(或克当量数),是对树脂交换能力的一种量度。又可分为树脂工作交换容量、树脂饱和工作交换容量、树脂全交换容量等。
·空间流速 space flow rate 单位时间单位体积树脂内所流过的废水量,或以单位时间内流过废水量为单位树脂体积的若干倍计。
·交换流速 exchange flowrate 单位时间内通过单位面积树脂层的水量。
·再生周期 regeneration period 离子交换树脂两次所间隔的时间。
·洗脱液 spent regenerant 再生液流过已饱和的离子交换树脂后所得到的溶液。
·离子交换柱 ion exchange column 用来进行离子交换反应的柱状压力容器。
·电解处理法 electrolytic treatment 利用电解反应处理电镀废水的一种方法。
·电极密度 electrode density 阳极或阴极的极板表面积与电解槽溶液体积之比。
·极距 electrode distance 电解槽内相邻两块阴、|考试大|阳极板间的距离。
·双极性电极 bipolar electrode 一个不与外电源相连的浸入阳极与阴极间电解液中的导体,靠近阳极的一面起着阴级的作用,而靠近阴极的一面起着阳极的作用。即同一块极板,一面是阳极而另一面是阴极。
·不溶性阳极 insoluble anode 在电解过程中,不发生或极少发生阳极溶解反应的阳极。
·周期换向 periodic reversal 在进行电解法处理废水时,在某些情况下,要求电流方向作周期性变化。
·脉冲电解 pulse electrolysis 使用脉冲电源代替直流电源的电解处理方法。
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